| ＜総論＞ |
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| 新材料の導入と半導体製造装置 |
前田和夫（半導体プロセス研究所） |
| 代替フロン（CF3I）を用いたLow-k膜エッチング技術 |
曽田栄一・近藤誠一・斎藤修一（半導体先端テクノロジーズ） |
| 微細Si3N4（シリコンナイトライド）パーティクルの洗浄 |
原 徹（法政大学）、木下 圭（SEZ） |
| ＜半導体製造装置・周辺機器＞ |
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| マイクロウェーブ加熱装置 |
前田和夫（半導体プロセス研究所） |
| 枚葉洗浄装置 |
増本哲己（日本エスイーゼット） |
| Obducatの量産向けナノインプリント装置 |
野口信夫（キヤノンマーケティングジャパン） |
次世代枚葉式ALDシステム
―原子層成膜の製造におけるプリカーサの課題に対応する高効率システムの設計―
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Jon Owyang ・Larry Bartholomew（アビザ・テクノロジー） |
| 45nmノード対応フォトマスク欠陥修正装置 |
萩原良二・高岡 修（エスアイアイ・ナノテクノロジー） |
| 液浸のダブルパターニングに対応した露光装置用光源 |
林 英行（ギガフォトン） |
| ＜半導体試験・検査・分析装置＞ |
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| EUV対応化学増幅レジストの脱保護反応の解析 |
関口 淳（リソテックジャパン） |
| 全自動原子間力顕微鏡「InSight 3D AFM」 |
平山誠一（日本ビーコ） |
| オンラインケミカルモニタリングシステム「QUAI-LINE QLC-7800」 |
福尾幸一（サーマトロニクス貿易） |
| 液体化学薬品ｲﾝﾗｲﾝﾌﾟﾛｾｽﾓﾆﾀ「CR-288濃度モニタ」 |
石田哲嗣（日本スウェージロック） |
| ウェハ総合評価システム「WTシリーズ」 |
横本種光（伯東） |
| ＜半導体プロセス用材料＞ |
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| 不揮発メモリ用PVD材料 |
鈴木正和・菊原浩司（高純度化学研究所） |
| EUVリソグラフィ用レジスト |
山下克宏（富士フイルム） |
| 半導体CMP用スラリーとその応用 |
笹川博章（D-process） |
