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（2007年4月号）

［特集］ビギナーのための「電子材料」基礎講座
【Part1】　電子材料産業の概要と市場展望
エレクトロニクス産業における電子材料の役割と重要性	上西勝三（日本工業大学）
シリコンウェハの市場・業界動向	小川貴史（ガートナージャパン）
【Part2】　電子材料の基礎解説
＜半導体分野＞
単結晶シリコンウェハ	工藤秀雄（信越半導体）
SOI基板技術	吉見　信（Soitec Asia）
フォトレジスト	島　基之（JSR）
半導体露光装置用レンズ材料	小川朝敬・高田雅章（AGCエレクトロニクス）
スパッタリングターゲット	鈴木　了（日鉱金属）
CMP用スラリー	堀　和伸・浅野　宏（フジミインコーポレーテッド）
MOCVD材料	東　慎太郎（高純度化学研究所）
半導体製造プロセスでの材料選択	吉田直治（ビクトレックス・エムシー）
太陽電池用材料	増田　淳（産業技術総合研究所）
＜実装技術分野＞
多層プリント配線板用材料	高田俊治（松下電工）
フレキシブル基板材料	沼倉研史（DKNリサーチ）
ダイボンディングペースト	山田和彦・堂々隆史（日立化成工）
ボンディングワイヤ	花田信一（田中電子工業）
鉛フリーはんだ	林　伸光（日鉄マイクロメタル）
異方性導電膜（ACF）	須賀保博（ソニーケミカル&インフォメーションデバイス）
導電性接着剤	本多俊之（藤倉化成）
半導体封止材料	内田　健（京セラケミカル）

＜今月の人＞
「技術革新の源は高純度材料にあり」をモットーにチャレンジ精神で進む	高純度化学研究所社長　寶地戸道雄　氏

［特設記事］フォトマスク技術を巡る話題
フォトマスク技術を巡る話題	渡辺秀弘（東芝セミコンダクター社）
マスク欠陥検査装置MATRICSシリーズ	滝沢英郎（レーザーテック）
フォトマスク撮像画像からのCADデータ再生成システム	青木　晋（高岳製作所）

［連載および常設記事］
＜新連載＞半導体製造のための統計基礎（1）	宇津木勝（寺子屋みほ）
プラズマテレビで眺めてみれば（11）	内池平樹
マーケットINDEX（167）	武野泰彦（グローバルネット）
＜新連載＞シンプリファイド・テクニカル・イングリッシュ（1）	石川　諭（テドプレスジャパン）
ベンチャー企業の実像を探る（51)	森野　進（日本起業家新聞社）
＜展示会レポート＞
nano tech 2007	編集部
＜会議速報＞
シンポジウム「新しい半導体デバイス技術のサステナビリティ俯瞰とそのアプローチ」報告	大島雅志（編集部）

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