＜総論＞
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| 次世代プロセスに対応する半導体製造装置 |
前田和夫（半導体プロセス研究所） |
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| ＜半導体製造装置・周辺機器＞ |
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| 表面波プラズマCVD |
鈴木正康（島津製作所） |
| 電子ビーム露光装置「F3000」 |
坂本樹一（アドバンテスト） |
| パワーデバイス向けレーザアニール装置 |
松野 明（フェトン） |
| ベベル洗浄技術を搭載した枚葉式ウェハ洗浄装置「SS-3000BC」 |
石井淳一（大日本スクリーン製造） |
| 次世代半導体洗浄システム「Critical Cleaning System CCS-1000」 |
石山栄一（伯東） |
| ドレン水レスと待ち時間ゼロ供給を同時実現した精密洗浄用電解オゾン水製造装置 |
土門宏紀（クロリンエンジニアズ） |
| 冷凍機一体型低温ICハンドラ |
大林頼彦（エーアイテック） |
| ウェハ接合装置「EVG500」シリーズ |
黒瀧宏和（イーヴィグループジャパン） |
| 次世代半導体プロセス向け薬液 |
島田憲司・矢口和義・安部幸次郎（三菱ガス化学） |
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| ＜半導体試験・検査・分析装置＞ |
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| 新飛行時間型2次イオン質量分析装置「TRIFT V nano TOF」 |
飯田真一・岩井秀夫・鈴木峰晴（アルバック・ファイ） |
| マルチプローブ走査型Ｘ線光電子分光分析装置「PHI5000 VersaProbe」 |
白尾徹郎・岩井秀夫・鈴木峰晴（アルバック・ファイ） |
| FIB-SEMダブルビーム装置／FIB-SEM-Arトリプルビーム装置「XVisionシリーズ」 |
鈴木秀和（エスアイアイ・ナノテクノロジー） |
| 自動マクロ欠陥検査装置「LDS3300」 |
佐藤 功（ヴィステックセミコンダクタシステムズ） |
| 半導体故障解析装置「Beam Tracer」 |
野久尾毅（日本電子） |
